ICP刻蚀，深入解析其含义与应用 未命名 2025-10-31 02:28:25 12 ICP刻蚀是一种利用等离子体技术进行材料加工的方法，通过高能离子轰击材料表面，实现精确的微纳加工，该技术广泛应用于半导体制造、微电子、纳米材料等领域，用于制造高精度的电路、器件和结构，ICP刻蚀具有高精度、高效率、低损伤等优点，是现代微纳制造领域不可或缺的技术之一。在现代微电子制造领域，随着科技的飞速发展，各... 阅读全文
